Primozone GM1-4 3.0高性能臭氧發生器介紹GM 系列提供十個標準尺寸的臭氧發生器。模塊化設計可以組合標準發生器，以滿足您從小到大需求的幾乎所有臭氧需求。無論需要多少產能，Primozone 都能提供合適的解決方案。根據應用和您的需求，Primozone 提供十種不同的臭氧發生器，臭
瑞典Primozone 臭氧發生器 GM6參數特點PRIMOZONE GM6-482.0系列高性能臭氧發生器基于Primozone的技術。一種能夠可靠地生產臭氧的技術，具有低能耗和出色的生命周期成本。20%濃度Primozone 臭氧發生器產生的臭氧濃度高于大多數其他商用高容量臭氧發生器。Primo
ANRIC AT-OZONE 臭氧發生器功能和規格特點用于非循環臭氧流動的高容量臭氧破壞器。消除機組廢氣流中的臭氧帶自動控制的 O2 入口截止閥電暈電池由帶陶瓷電介質的鋁制成低流量時重量比 12%，高流量時為 6%工作頻率： 5，000 – 30，000 Hz自動臭氧控制需要3-24V輸入信號臭氧內
AT410 臺式熱原子層沉積描述AT410 工具是市場上具成本效益的原子層沉積系統。半導體級組件和金屬密封管線以及快速脈沖閥使研發機構能夠快速訪問高質量的 ALD 薄膜，以快速篩選概念。 該工具擁有達到或超過市場上其他工具的功能，而成本只是其中的一小部分。技術特點直徑高達 4“ 的樣品架（可定制以容
D16 PortaSens III 臭氧泄漏檢測儀D16 PortaSens III系列與其前身PortaSens III相似，后者已經服役了15年（自2003年以來）。該儀器的內部重新設計包括：現代USB計算機界面，彩色觸摸屏顯示器和改進的泵控制！D16 系列 PortaSens III 便攜式臭
LabTech VC1000 數字真空控制器LabTech采用專業生產技術，集多年旋蒸研發經驗。開發了新一代EV系列旋蒸，使其更加人性化、結構合理、安全穩定、適用性強。真空度控制，提供高效且可控的蒸餾過程，提高溶劑回收率，有效避免樣品暴沸和低沸點目標物質的損失梯度程序設定的真空度和轉速，適用于多種
空氣凈化處理系統技術參數要求1 設備選用帶余壓型，余壓100Pa。2 每臺設備均配置等離子凈化裝置，凈化效率90%。3 凈化消毒裝置具體的衛生要求根據衛健委的相關要求，凈化效率須滿足如下要求：項目條 件要 求裝置阻力正常送排風量50 Pa顆粒物凈化效率一次通過醫學教育`網整理50%微生物凈化效率一次
臭氧發生器消除微生物以延長食品的保質期臭氧氣體消毒其中應用的兩個領域是在肉類和家禽等產品的制造過程中的預包裝階段，以及用于儲存馬鈴薯等直接收獲的產品。通過在包裝前對產品進行臭氧處理，細菌水平顯著降低，李斯特菌和其他病原體可以得到控制，從而延長產品的保質期。除了被處理的產品外，生產過程中使用的設備還可
電感耦合等離子體原子層沉積設備參數1、 反應腔系統1)樣品臺為不小于4英寸雙腔腔體，加熱溫度范圍：室溫至500℃，并且操作者可以控制設置，控制精度1℃，直徑100 mm基底范圍內溫度均一性2℃；2)樣品臺直徑100 mm，可以生長4英寸晶圓及以下尺寸樣品；3) 4路液源，3路載氣輔助源；4)設備可用
臭氧中和器是什么？臭氧中和器常用于紫外臭氧清洗機中，是紫外臭氧清洗機配套的臭氧去除設備。主要是通過納米級金屬氧化物催化劑分解臭氧，以及利用臭氧的不穩定性加速臭氧快速流動從而達到快速去除臭氧的目的。一般購買紫外臭氧清洗機，作為可選項。臭氧中和器臭氧尾氣分解器，常用于小型臭氧發生器尾氣臭氧分解
CIF 紫外臭氧清洗機（UV-Ozone）紫外臭氧清洗機（UVO），是一種簡單，經濟，快速高效的材料表面清洗設備，能快速去除大多數無機基材（比如石英，硅片，金，鎳，鋁，砷化鎵，氧化鋁等）上的有機污染物。CIF 紫外臭氧清洗機采用長壽命 UV 石英低壓汞蒸汽格柵燈，樣品臺高度可調并可選加熱控溫，以便達
美國API 452型過程臭氧測量模塊 - 適合應用于半導體行業 -452是基于微處理器的、能夠精準可靠地測量氧氣或空氣中的高濃度臭氧的氣體測量模塊。 測量原理是基于254nm波長的紫外吸收法。讀數的單位可在重量百分比和克/立方米中選擇。溫度補償和高達300kPa的壓強補償也是該系列儀器的特點。儀器緊
美國API臭氧發生器控制器SCI-552參數 - 適合應用于半導體工業流程 -CI-552 是臭氧輸送系統的系統控制器，為許多典型系統組件提供電子控制接口，包括：臭氧發生器、EV 閥、質量流量控制器、背壓控制器、Teledyne API 452 臭氧傳感器、Teledyne API 470 溶解臭氧
日本半導體工藝臭氧水生產設備廣泛的適應范圍，從濃度到 100ppm，從流速到 60L/min。 可根據各種要求進行定制。大流量、高濃度的臭氧水生成裝置。 歡迎定制。 適合清洗、電阻剝離應用，也是單片式清洗裝置的理想選擇。清潔臭氧水，無金屬污染我們不使用金屬作為液體接觸部分。 可生產出適合半導體清洗的
臭氧標準氣體發生器滿足《JJG1077-2012臭氧氣體分析儀檢定規程》對臭氧標準氣體發生裝置的技術要求。可產生高濃度臭氧標準氣體和低濃度臭氧標準氣體。高濃度臭氧標準氣體發生器采用電暈放電原理，可產生臭氧濃度高達400ppm的臭氧標準氣體；低濃度臭氧標準氣體發生器采用紫外氧氣光分解原理，產生臭氧濃度
幼兒園教室臭氧消毒機如何選擇1、幼兒園教室臭氧消毒建議選擇壁掛式臭氧發生器。 2、臭氧發生器產量的大小，根據室內面積來計算，一般面積在50平內，選擇20g/h臭氧發生器，100平以內，可選擇40g/H臭氧發生器。3、均需要設置定時，開機消毒90-120分鐘，設置開關機時間，自動開機自動關機。4、幼兒
原子層沉積（ALD）是一種前沿的納米結構制造與表面工程技術。該技術通過交替發生的表面飽和化學反應實現原子級精度的可控薄膜生長，具有沉積溫度低、保形性好、原子級厚度控制能力、工藝可靠性和重復性好等特點。目前已被開發的ALD過程可用于合成超過150種單質和化合物，包括金屬氧化物、氮化物、硫化物、磷化物、
